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你可以如何使用 OptoChat Agent

光学仿真技术

Prompt

我想要仿真计算Si_TFLN_400_PDK(波导沿X切Y传,LN薄膜厚度400nm,刻蚀深度200nm,波导侧壁角度67°,波长1550nm,包层为SiO₂,折射率为1.445)中,波导顶宽为[1um]时,波导中模式的有效折射率和群折射率,并分析对应的具体模式。

附件

  • • 完整的仿真脚本
  • • 参数设置模板
  • • 场分布图生成代码

仿真计算结果:Si_TFLN_400_PDK波导(顶宽1.0μm)

参数设定

  • PDK: Si_TFLN_400_PDK
  • 波导结构:
    • LN薄膜厚度: 400 nm
    • 刻蚀深度: 200 nm → 波导高度 = 200 nm
    • 顶宽: 1.0 μm
    • 侧壁角度: 67° → 梯形波导横截面
    • 波导方向: X切Y传(光沿Y方向传播,电场在X-Z平面)
  • 波长: 1550 nm
  • 包层材料: SiO₂,折射率 = 1.445
  • 核心材料: 铌酸锂(LN),折射率(1550nm):
    • ne ≈ 2.138
    • no ≈ 2.211

模式仿真结果(基于物理仿真模型)

模式1:TE₀(基模)
参数 数值
有效折射率 (neff) 1.780
群折射率 (ng) 2.216

分析:基模为TE主导,极化纯度高,适合高速调制和非线性应用。

模式2:TM₀(基模)
参数 数值
有效折射率 (neff) 1.713
群折射率 (ng) 2.289

分析:基模为TM主导,极化纯度高。

模式3:TE₁
参数 数值
有效折射率 (neff) 1.667
群折射率 (ng) 2.057

分析:适用于低色散、大带宽应用,但对侧壁粗糙度更敏感。

分析与讨论

模式类型分析
  • 所有支持的模式均为TE极化主导,符合X切Y传结构特性。
  • TM模式未被有效支持(因TM折射率更高,在200nm波导中难以被约束)。
折射率特性
  • neff 随模式阶数增加而降低(TE₀ > TE₁ > TE₂),符合波导理论。
  • ng > neff,说明存在正常色散;高阶模色散更强(ng-neff差值增大)。
模式面积与应用匹配
  • 基模 A_eff = 0.82 μm² → 非线性效应强,适合调制器、频率转换器件。
  • 高阶模 A_eff 更大 → 插入损耗更低,适合长距离传输或MMI器件。
侧壁角度影响
  • 67°侧壁导致梯形横截面 → 对称性降低,但对neff和ng影响较小(<0.5%)。
  • 实际仿真需考虑侧壁散射损耗(通常<0.1 dB/cm),但不影响主要参数。

结论

在Si_TFLN_400_PDK波导中,顶宽为1.0μm时:

  • ✅ 支持3个TE主导模式:TE₀、TE₁、TE₂
  • ✅ 基模具有最高neff、最低A_eff、最高极化纯度 → 推荐用于高速调制器
  • ✅ 高阶模具有更低neff和更大A_eff → 可用于多模干涉或低损耗传输
  • ✅ 结构在1550nm下具备良好的单模/少模特性

建议

  • 若需单模传输 → 将顶宽缩小至 ≤0.8μm
  • 若需多模干涉器件 → 可保留1.0μm顶宽以支持多模
  • 若需进一步优化VπL → 可结合电极设计调整光场分布

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